KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

時間：2024-01-10作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：68

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  詞條說明

• KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜

  ? ?? ?紫外濾光片是一種光學元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個波段, 因為其生物體透過率低, 被譽為對人體的紫外線.222nm遠紫外產品一定程度上解決了傳統紫外線不能直接照射人體的痛點問題, 兼顧了功能性和性, 實現了人機友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達99.9%的細

• 燃料電池儲氫系統氦質譜檢漏法

  上海伯東燃料電池儲氫系統氦質譜檢漏法氫是一種易于儲存, 運輸和使用的能源載體.?在多種工業領域的脫碳,?以及在行駛距離長,?加油所需時間短的零排放出行中,?氫技術都發揮重要作用.?氫能作為一種清潔能源在燃料電池中的化學反應只產生水,?電和熱.?已被廣泛應用于燃料電池電動汽車?FCEV?車載儲氫系統, 

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  英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量 上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續進行拉曼增強. 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進行測試. 將樣品放置在樣品臺, 通過系統軟件自動控制. 原子力顯微鏡測試條件

• KRi 大面積射頻離子源應用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統

  上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性（1 σ）達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導體, 絕緣體, 導體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,