HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機

時間：2024-01-11

作者：伯東企業（上海）有限公司

詞條
詞條說明
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用
上海伯東某客戶在熱蒸發鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3
分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統?PLD脈沖激光沉積系統 PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統的真空度和加快抽空時間, 經過伯東選用分子泵+分子泵組串聯組合的形式來提高系統的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產的 COM
KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜
?? 舞臺燈光雖然呈現是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學濾光片,?對光進行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產生不同顏色.?而在光學元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質膜
KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制
? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術.?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應用前景.?如可在精密光學儀器和光學零件、醫療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產