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詞條說明
QPL100A型履帶式拋丸強化清理機,適用于鍛件、焊接件、鑄造件、沖壓件等工件的表面清理、強化的設備。 凡各種金屬鑄件表面粘砂清理,黑色金屬零件的表面除銹,沖壓件表面毛刺和毛邊的倒鈍,鍛件和熱處理工件的表面處理以及彈簧表面氧化皮清除和表面的粒細化等均可通過該系列設備的拋丸強化工藝來實現(xiàn)。其應用范圍廣,主要有鑄造廠、熱處理廠、電機廠、機床配件廠、自行車零件廠、動力機廠、汽車配件廠、摩托車配件
精密光整加工技術的核心要點在機械制造領域,光整加工技術直接影響著零部件的最終質(zhì)量和使用壽命。這項工藝通過微量切削和研磨作用,使工件表面達到鏡面級光潔度,同時改善零件的幾何精度和物理性能。現(xiàn)代光整加工主要采用兩種技術路線:傳統(tǒng)機械拋光和先進激光拋光。機械拋光依靠磨料與工件表面的相對運動來實現(xiàn)材料去除,具有設備投入小、工藝成熟的特點,但存在加工效率低、一致性差的局限。激光拋光利用高能激光束瞬間汽化材料
在現(xiàn)代制造業(yè)中,金屬表面處理已成為提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長使用壽命的重要環(huán)節(jié)。而無錫泰源機器制造有限公司所生產(chǎn)的臥式離心研磨機,憑借其高效、節(jié)能的特性,正逐漸成為這一領域的熱門選擇。本文將詳細介紹無錫臥式離心研磨機的使用方法,幫助您更好地掌握這一設備的操作技巧。一、設備概述臥式離心研磨機是一種通過離心力將研磨介質(zhì)和工件結(jié)合在一起的加工設備。與其他類型的研磨機相比,臥式離心研磨機具有更高的研磨效率和更均勻
在我們實際研磨拋光過程中,研磨拋光主要講的是化學機械拋光(CMP: Chemical Mechanical Polishing)。CMP 是化學的和機械的綜合作用,在一定壓力及拋光漿料存在下,在拋光液中的腐蝕介質(zhì)作用下工件表面形成一層軟化層,拋光液中的磨粒對工件上的軟化層進行磨削,因而在被研磨的工件表面形成光潔表面。拋光液中的腐蝕介質(zhì)與被拋光表面材料發(fā)生了化學反應,生成很薄的剪切強度很低的化學反應
公司名: 無錫泰源機器制造有限公司
聯(lián)系人: 李曉清
電 話: 0510-83757885
手 機: 13771428027
微 信: 13771428027
地 址: 江蘇無錫惠山區(qū)堰橋街道惠暨大道518號
郵 編:
網(wǎng) 址: wxty.b2b168.com
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