美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：58

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  詞條說(shuō)明

• 美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù), 安裝于各類真空設(shè)備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機(jī), lo

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  ? ? ?在沒(méi)有真空的情況下，可再生能源的發(fā)展是不可能的。以光伏發(fā)電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉(zhuǎn)化方式，通過(guò)太陽(yáng)能電池將太陽(yáng)輻射能轉(zhuǎn)化為電子流，進(jìn)而生成電能。? ? ? ?太陽(yáng)能電池技術(shù)有許多種類，其中一種主要的技術(shù)是基于薄膜沉積。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)在于，它在制造太陽(yáng)能電池時(shí)消耗的材料較

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  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣