KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發系統輔助鍍膜應用
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HVA 真空閥門應用于亞洲*大的粒子系統
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